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कंपनी की खबर उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज रेत उद्योग की संरचना, शुद्धता मानक, तकनीकी बाधाएं और अनुप्रयोग का दायरा (5)

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उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज रेत उद्योग की संरचना, शुद्धता मानक, तकनीकी बाधाएं और अनुप्रयोग का दायरा (5)
के बारे में नवीनतम कंपनी की खबर उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज रेत उद्योग की संरचना, शुद्धता मानक, तकनीकी बाधाएं और अनुप्रयोग का दायरा (5)

4आपूर्ति और मांग के बीच संतुलन बरकरार रहने की उम्मीद है और कीमतों में सुधार के लिए अभी भी जगह है।

 

क्वार्ट्ज क्रिजबल एकल क्रिस्टल सिलिकॉन खींचने के लिए एक उपभोग्य है

 

क्वार्ट्ज क्रिजबल: यह फोटोवोल्टिक एकल क्रिस्टल फर्नेस का एक प्रमुख घटक है और बड़े व्यास के एकल क्रिस्टल सिलिकॉन को खींचने के लिए एक उपभोग्य पात्र है।इसका उपयोग मुख्य रूप से पिघले हुए सिलिकॉन को शामिल करने और बाद की प्रक्रियाओं के लिए आवश्यक क्रिस्टल छड़ें बनाने के लिए किया जाता है1978 से 1988 तक, मेरे देश के क्वार्ट्ज उत्पादों जैसे कि चाप क्वार्ट्ज क्रिजबल, उच्च शुद्धता वाले लेपित क्रिजबल, लेजर के लिए क्वार्ट्ज ग्लास,उच्च शुद्धता और उच्च तापमान प्रतिरोधी क्वार्ट्ज ग्लास ट्यूबों का विकास और बड़े पैमाने पर उत्पादन किया गया1989 से 2000 तक, इस चरण में मुख्य रूप से उन्नत विदेशी प्रौद्योगिकियों की शुरूआत और अवशोषण के आधार पर राष्ट्रीयकरण प्राप्त हुआ।पिघलने का आकार 12 इंच से 32 इंच तक बढ़ गया है, और कुछ कंपनियां 40 इंच तक पहुंच गई हैं।

 

क्वार्ट्ज क्रिजबल को तीन परतों में विभाजित किया गया हैः आंतरिक, मध्य और बाहरी। मध्य और आंतरिक परतों का लगभग 30%-40% हिस्सा होता है।

 

पिघलने की संरचनाः क्वार्ट्ज पिघलने को बाहरी परत (अपरिभाषित परत) और मध्य आंतरिक परत (शून्य पारदर्शी परत) में विभाजित किया गया है।बाहरी परत (अपरिभाषित परत) के अंदर बड़ी संख्या में बुलबुले होते हैं, जो समान रूप से गर्म होता है और एक अच्छा थर्मल इन्सुलेशन प्रभाव है; मध्य और आंतरिक परत (पारदर्शी परत) समान रूप से घनी होती है और एक चिकनी सतह होती है,जो पिघलने की ताकत को बढ़ा सकता है (विकृति का विरोध) और आंतरिक सतह के तापमान को कम कर सकता है (डेविट्रिफिकेशन को रोक सकता है)) प्रत्येक क्रिगबल निर्माता के विभिन्न सूत्रों के अनुसार, मध्य और आंतरिक परतों में रेत का अनुपात 30% से 40% तक होता है।

 

क्वार्ट्ज क्रिजबल की आंतरिक परत में उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज रेत, कम एल्यूमीनियम, कम क्षार और एंटी-क्रिस्टलीकरण के लिए उच्च आवश्यकताएं हैं।

 

क्वार्ट्ज क्रिजबल की आंतरिक परत में उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज रेत, कम एल्यूमीनियम, कम क्षार और एंटी-क्रिस्टलीकरण के लिए उच्च आवश्यकताएं हैं।पिघल की सबसे आंतरिक सतह परत आंतरिक सतह के निकटतम पारदर्शी परत के 1-2 मिमी भाग को संदर्भित करता हैसिलिकॉन तरल पर घर्षण के प्रभाव का तंत्र यह है कि सिलिकॉन तरल के संपर्क में आने वाली आंतरिक सतह सिलिकॉन तरल में पिघलती रहती है।और जैसे-जैसे पारदर्शी परत में माइक्रो-बुलबुले बढ़ते रहते हैं, सबसे भीतरी सतह के पास बुलबुले फट जाते हैं, और सिलिकॉन तरल क्वार्ट्ज सूक्ष्म कणों और सूक्ष्म बुलबुले जारी करता है।इन अशुद्धियों सूक्ष्म कणों और सूक्ष्म बुलबुले के रूप में सिलिकॉन तरल के साथ पूरे सिलिकॉन पिघल के माध्यम से बह जाएगासिलिकॉन (पूरी रॉड दर, क्रिस्टलीकरण दर, हीटिंग समय, प्रत्यक्ष प्रसंस्करण लागत, आदि) और एकल क्रिस्टल की क्रिस्टलीकरण की गुणवत्ता को सीधे प्रभावित करता है।,ब्लैक चिप्स आदि) ।

 

क्वार्ट्ज पिगलों का आकार बढ़ जाता है और उनका जीवनकाल लगातार बढ़ता जाता है

 

क्वार्ट्ज क्रिगबल का आकार बढ़ाया जाता हैः ओउजिंग टेक्नोलॉजी के प्रॉस्पेक्टस के अनुसार, एक 28 इंच का एकल क्रिस्टल क्रिगबल 40 किलोग्राम से अधिक वजन का होता है।बड़े पैमाने पर सिलिकॉन वेफर्स की प्रवृत्ति के साथ, क्वार्ट्ज क्रिजल्स का आकार बढ़ता रहता है, और वजन भी तदनुसार बढ़ता है।एक ही आकार के अंतर्गत, हम अनुमान लगाते हैं कि 32 इंच के पिघलने का वजन लगभग 70-80 किलोग्राम है, और 36 इंच के पिघलने का वजन लगभग 90-100 किलोग्राम है।

 

वैश्विक स्थापित क्षमता में वृद्धि + एन प्रकार के अनुपात में वृद्धि मांग में तेजी से वृद्धि को प्रेरित करती है

 

एन-प्रकार के सिलिकॉन वेफर्स का अनुपात बढ़ गया हैः एन-प्रकार की मोनोक्रिस्टलाइन कोशिकाएं अधिक कुशल हैं, और 2030 तक यह अनुपात 50% तक बढ़ने की उम्मीद है।एन-प्रकार के सिलिकॉन वेफर्स में पॉलीक्रिस्टलाइन सिलिकॉन कच्चे माल और कुछ सहायक सामग्रियों के लिए उच्च शुद्धता की आवश्यकता होती हैएन-प्रकार के सिलिकॉन वेफर्स को क्वार्ट्ज क्रिजबल को अधिक बार बदलने की आवश्यकता होती है, जिसके परिणामस्वरूप उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज रेत की अधिक मांग होती है।इसके अतिरिक्त सौर ऊर्जा की कुल मात्रा में वृद्धिउच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज रेत उद्योग के विकास में संरचनात्मक उन्नयन का योगदान होने की उम्मीद है।

 

2024 से 2026 तक उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज रेत की वैश्विक मांग 62 प्रतिशत होने का अनुमान है।000, 82,000, और 99,000 टन

 

हम अनुमान लगाते हैं कि 2024 से 2026 तक वैश्विक फोटोवोल्टिक स्थापित क्षमता 240, 300 और 375GW होगी।बड़े पैमाने पर की प्रवृत्ति के तहत एक एकल पिघलने का औसत वजन 80 है, 90, और 90 किलोग्राम; उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज रेत का निर्माण एकल क्रिस्टल पिगबल हानि गुणांक 0 है8मध्य और आंतरिक परतों में रेत की मांग 40% और बाहरी परत में रेत की मांग 60% है।

 

वर्ष 2024-2026 में उद्योग की आपूर्ति और मांग एक तंग संतुलन बनाए रखेगी और कीमतों में वृद्धि जारी रहने की उम्मीद है।

 

उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज रेत की आपूर्ति और मांग 2024 से 2026 तक एक तंग संतुलन बनाए रखने की उम्मीद है।अनुमान है कि 2024 से 2026 तक उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज रेत की मांग लगभग 62 प्रतिशत होगी।,000, 82,000, और 99,000 टन, और आपूर्ति लगभग 60,000, 82,000, और 98,000 टन, जिसमें -0 का आपूर्ति-मांग अंतर है।2, -0.1, और -0.1 मिलियन टन।

 

क्वार्ट्ज शेयर उत्पाद की कीमतों में वृद्धि जारी रहने की उम्मीद है।उद्योग के समग्र औसत मूल्य में वृद्धि हुई है।दूसरी ओर, क्वार्ट्ज शेयरों में आंतरिक रेत का अनुपात धीरे-धीरे बढ़ने की उम्मीद है, और मध्य और आंतरिक रेत की औसत कीमत अधिक है,जिससे समग्र औसत मूल्य में वृद्धि होने की उम्मीद है।.

पब समय : 2024-04-01 23:21:41 >> समाचार सूची
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